高純度氧氣O2氣體分析儀

產品特性 :

熱門應用領域:
鋼鐵、空氣分離工廠、高純度氣體、高純度氧氣、O2


氧氣O2微量成份氣體分析儀

氧氣供應在煉鋼製程、半導體製程及液晶顯示器製程中扮演著重要角色,氧氣純度主導著各製程產品之良率高低及工業安全的風險。90年代國外相繼發生空氣分離設備爆炸傷亡事故,空氣分離設備的安全更引起了高度重視。氧氣工場液氧製程目前之線上危爆氣體成份偵測仰賴GC-FID、NDIR等功能有限之舊型設備,分析能力不足,故開發此危爆成份偵測儀器,線上分析氧氣工場液氧製程危爆氣體成份CO2、N2O、CH4、C2~C4,不純物成份Ar、Kr、N2,微量分析技術可達50ppb以下,提高並擴充分析儀應用性,以達成下列預期之目標。
 
    ▶  一次測定所有成分的新型分析偵測技術取代傳統三種分析偵測技術。
    ▶  精確偵測微量微爆成份,提高氧氣場工業安全。
 
 

  壹.氧氣 (O2) 氣體分析儀功能規格  

 

  • 可分析的氣體種類:氧氣。
  • 待測物成分及最低可偵測濃度(MDL): Ar、N、Kr、CH4、CO2、N2O、C2~C4等 ;MDL為30~100ppb。
  • 待測物標準成份(5ppm)五重複分析的相對標準偏差(RSD):<3~6%。

 

  貳.氧氣 (O2)氣體分析儀硬體規格  

 

   A. 層析系統

 

  • 電子流量控制(EPC):精確度達0.001psi,為載送氣體、偵測器流量、輔助氣體、逆吹氣體及核心切除氣壓平衡氣(heart cut)等的標準規格,可控制16個通道的流量或壓力。
  • 分析成分滯留時間誤差:<0.0008分鐘。
  • 烘箱溫度操作範圍及精度:室溫+4℃~450℃,0.01℃控制精度。
  • 可配置3個偵測器。

 

   B. 偵測器及控制系統

 

     1. 脈衝式放電偵測器(PDHID):

  • 泛用型非破壞性氦氣光離子化偵測模式。
  • 氦氣光子能量:13.5~17.7eV。
  • 最小檢測量:low ppb,可分析非腐蝕性或腐蝕性氣體。
  • 線性範圍:大於105

 

     2. 火焰離子化偵測器(FID):

  • 電子流量控制(EPC): 可控制氫氣、空氣、補充氣體等的流量。
  • 最小檢測量: 小於或等於1.8pg (10-12g) 碳/秒,線性動態範圍:≧107
  • 總碳氫化合物(THC):最小檢測量<0.01ppm。
 

    3.  熱導電度偵測器(TCD):

  • 電子流量控制(EPC): 可控制參考氣體、補充氣體等的流量。
  • 最小檢測量:優於400x10-12g 碳氫化合物/毫升,線性動態範圍105