熱門應用領域：
鋼鐵、空氣分離工廠、高純度氣體、高純度氧氣、O2
高純度氧氣O2氣體分析儀
產品特性 ：
氧氣O2微量成份氣體分析儀
氧氣供應在煉鋼製程、半導體製程及液晶顯示器製程中扮演著重要角色，氧氣純度主導著各製程產品之良率高低及工業安全的風險。90年代國外相繼發生空氣分離設備爆炸傷亡事故，空氣分離設備的安全更引起了高度重視。氧氣工場液氧製程目前之線上危爆氣體成份偵測仰賴GC-FID、NDIR等功能有限之舊型設備，分析能力不足，故開發此危爆成份偵測儀器，線上分析氧氣工場液氧製程危爆氣體成份CO2、N2O、CH4、C2~C4，不純物成份Ar、Kr、N2，微量分析技術可達50ppb以下，提高並擴充分析儀應用性，以達成下列預期之目標。
▶ 一次測定所有成分的新型分析偵測技術取代傳統三種分析偵測技術。
▶ 精確偵測微量微爆成份，提高氧氣場工業安全。
壹. 氧氣 (O2) 氣體分析儀功能規格
- 可分析的氣體種類：氧氣。
- 待測物成分及最低可偵測濃度(MDL)： Ar、N2 、Kr、CH4、CO2、N2O、C2~C4等 ；MDL為30~100ppb。
- 待測物標準成份(5ppm)五重複分析的相對標準偏差(RSD)：＜3~6%。
貳.氧氣 (O2)氣體分析儀硬體規格
A. 層析系統
- 電子流量控制(EPC)：精確度達0.001psi，為載送氣體、偵測器流量、輔助氣體、逆吹氣體及核心切除氣壓平衡氣(heart cut)等的標準規格，可控制16個通道的流量或壓力。
- 分析成分滯留時間誤差：＜0.0008分鐘。
- 烘箱溫度操作範圍及精度：室溫＋4℃~450℃，0.01℃控制精度。
- 可配置3個偵測器。
B. 偵測器及控制系統
1. 脈衝式放電偵測器(PDHID)：
- 泛用型非破壞性氦氣光離子化偵測模式。
- 氦氣光子能量：13.5~17.7eV。
- 最小檢測量：low ppb，可分析非腐蝕性或腐蝕性氣體。
- 線性範圍：大於105。
2. 火焰離子化偵測器(FID)：
- 電子流量控制(EPC)：可控制氫氣、空氣、補充氣體等的流量。
- 最小檢測量：小於或等於1.8pg (10-12g) 碳/秒，線性動態範圍：≧107。
- 總碳氫化合物(THC)：最小檢測量＜0.01ppm。
3. 熱導電度偵測器(TCD)：
- 電子流量控制(EPC)：可控制參考氣體、補充氣體等的流量。
- 最小檢測量：優於400x10-12g 碳氫化合物/毫升，線性動態範圍105。