高純度氫氣H2氣體分析儀

產品特性 :

熱門應用領域:
光電、半導體、太陽能、LED、電子級氣體、H2


  壹.氫氣 (H2) 氣體分析儀功能規格  

 

  • 待測物成分及最低可偵測濃度(MDL): N2、CH4、CO、CO2等 ;MDL<10ppb。
  • 待測物標準成份(5ppm)五重複分析的相對標準偏差(RSD): Peak Area<2%、Amount<2%。
  • 總碳氫化合物(THC):最小檢測量<100ppb。


  貳.氫氣 (H2) 氣體分析儀硬體規格  

 

 

   A. 氣體分析儀架構可現場(on-site)修改升級,增加待測物成份

 

   B. 層析系統

 

  • 電子流量控制(EPC):精確度達0.001psi,為載送氣體、偵測器流量、輔助氣體、逆吹氣體及核心切除氣壓平衡氣(heart cut)等的標準規格,可控制16個通道的流量或壓力。
  • 所有載送氣體或輔助氣體之流量須為電子流量控制(EPC),並可由化學工作站操作軟體設定。
  • 具大氣壓力感應裝置可補償室溫及海平面高度的改變。
  • 具有氣體不足時,自動啟動機台自我保護功能。
  • 分析成分滯留時間在現性:0.0008min。
  • 面積再現性:<1%RSD。
  • 烘箱溫度操作範圍及精度:室溫+4℃~450℃,0.01℃控制精度。程式升溫在現性≦1%。

 

   C. 偵測器及控制系統

 

     1. 脈衝式放電偵測器:

  • 泛用型非破壞性氦氣光離子化偵測模式。
  • 氦氣光子能量:13.5~17.7eV。
  • 最小檢測量:low ppb,可分析非腐蝕性或腐蝕性氣體。
  • 線性範圍:大於105。

 

     2. 總碳氫化合物(THC)偵測器:

  • 電子流量控制(EPC): 可控制氫氣、空氣、補充氣體等的流量。
  • 最小檢測量(MDL): <1.8pg (10-12g) 碳/秒,線性動態範圍:>107。